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Litografia BEUV (Beyond-EUV): la startup Lace punta sul fascio di atomi di elio per superare i limiti di ASML
La startup norvegese Lace ha raccolto 40 milioni di dollari, con il supporto di Microsoft, per sviluppare una litografia basata su atomi di elio anzichĆ© sulla luce. Con una risoluzione di 0,1 nm, la tecnologia BEUV promette chip 10 volte piĆ¹ densi e punta a…
