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Litografia BEUV (Beyond-EUV): la startup Lace punta sul fascio di atomi di elio per superare i limiti di ASML

di webmaster | Mar 25, 2026 | Tecnologia



La startup norvegese Lace ha raccolto 40 milioni di dollari, con il supporto di Microsoft, per sviluppare una litografia basata su atomi di elio anziché sulla luce. Con una risoluzione di 0,1 nm, la tecnologia BEUV promette chip 10 volte più densi e punta a rivoluzionare la produzione di semiconduttori entro il 2029.



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Scritto da Flavio Perrone, consulente informatico e appassionato di tecnologia e lifestyle. Con una carriera che abbraccia più di tre decenni, Flavio offre una prospettiva unica e informata su come la tecnologia può migliorare la nostra vita quotidiana.

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